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Planargard® APR バルク CMP フィルター

先端ノードプロセス向けのスラリー中の粗大粒子と微小粒子の両方を除去できる次世代型スラリー用フィルターです。

  • 特許取得済みの多層メディアは、粒子除去能力が高く、ウェーハ欠陥の低減、歩留まり向上に寄与
  • 微粒子を吸着するメディア設計により、CMP 後洗浄不足を最小限に抑え、総コストオブオーナーシップを改善
  • インテグリスの Chemlock®  (ケムロック) ハウジングを併用することで、省スペースとクリーンで簡単な取り付けが可能
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